| 公開(公告)號 | CN1863784A |
| 公開(公告)日 | 2006.11.15 |
| 申請(專利)號 | CN200480029151.4 |
| 申請日期 | 2004.08.24 |
| 專利名稱 | 2-萘基亞氨基-1,3-噻嗪衍生物 |
| 主分類號 | C07D279/06(2006.01)I |
| 分類號 | C07D279/06(2006.01)I;C07D417/12(2006.01)I;C07D513/20(2006.01)I;A61K31/54(2006.01)I;A61P11/08(2006.01)I;A61P17/04(2006.01)I;A61P25/04(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.8.26 JP 300952/2003 |
| 申請(專利權(quán))人 | 鹽野義制藥株式會社 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 甲斐浩幸;森岡靖英;小池勝己 |
| 地址 | 日本大阪府大阪市 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-08-24 PCT/JP2004/012086 |
| 進入國家日期 | 2006.04.05 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 溫宏艷;王景朝 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權(quán)項 | 式(I)化合物、其可藥用鹽或溶劑化物： 其中R2和R3相同或不同，并且各自為C2-C4烷基、C2-C4烯基、C1-C4烷氧基C1-C4烷基、任選取代的氨基C1-C4烷基或C3-C6環(huán)烷基C1-C4烷基；或 R2和R3與相鄰碳原子合起來形成任選取代的5至8元非芳族碳環(huán)或任選取代的5至8元非芳族雜環(huán)； R4為C1-C6烷基、羥基C1-C6烷基、任選取代的氨基C1-C6烷基或C1-C6烷氧基C1-C6烷基； X為氧原子或硫原子； A為下式基團：或 其中R1相同或不同，為烷基、烷氧基、烷硫基、任選取代的氨基、任選取代的芳基、任選取代的芳氧基、任選取代的芳烷基氧基、環(huán)烷基、鹵素原子、羥基、硝基、鹵代烷基、鹵代烷氧基、任選取代的氨甲�；Ⅳ然�、烷氧基羰基、烷基亞磺酰基、烷基磺�；�、烷氧基烷基、烷硫基烷基、任選取代的氨基烷基、烷氧基亞氨基烷基、烷氧基烷氧基、烷硫基烷氧基、烷氧基羰基烷氧基、羧基烷氧基、烷基磺�；趸�、任選取代的雜芳基、任選取代的非芳族雜環(huán)基團、氰基、氰基烷氧基或下式基團：-C(＝O)-RH，其中RH為氫原子、烷基、任選取代的芳基或任選取代的非芳族雜環(huán)基團； W為可包含任選取代的雜原子的C2-C6亞烷基或可包含任選取代的雜原子的C2-C4亞烯基； n為0至7的整數(shù)。 |
| 摘要 | 式(I)化合物、其可藥用鹽或溶劑化物，其中R2和R3各自相同或不同，為C2-C4烷基等；或R2和R3與相鄰碳原子合起來形成5至8元非芳族碳環(huán)；R4為C1-C6烷基等；X為氧原子或硫原子；A為下式基團，其中R1相同或不同，為烷基等等；W為可包含任選取代的雜原子的C2-C6亞烷基等等；n為0至7的整數(shù)。 |
| 國際公布 | 2005-03-24 WO2005/026138 日 |
