| 公開(公告)號 | CN1747910A |
| 公開(公告)日 | 2006.03.15 |
| 申請(專利)號 | CN200480003902.5 |
| 申請日期 | 2004.02.10 |
| 專利名稱 | 碘化合物的制備方法以及高純度5-碘-2-甲基苯甲酸的制備工藝 |
| 主分類號 | C07B39/00(2006.01)I |
| 分類號 | C07B39/00(2006.01)I;C07C17/12(2006.01)I;C07C25/02(2006.01)I;C07C25/18(2006.01)I;C07C51/363(2006.01)I;C07C51/43(2006.01)I;C07C63/70(2006.01)I;C07C253/30(2006.01)I;C07C255/50(2006.01)I;B01J29/70(2006.01)I;B01J29/18(2006.01)I;B01J29/08(2006.01)I;B01J29/60(20 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權 | 2003.2.10 JP 032187/2003;2003.2.10 JP 032671/2003 |
| 申請(專利權)人 | 三菱瓦斯化學株式會社 |
| 發(fā)明(設計)人 | 日高敏雄;吉村貴史;佐藤良文;伏見則夫;銅谷正晴 |
| 地址 | 日本東京 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2004-02-10 PCT/JP2004/001367 |
| 進入國家日期 | 2005.08.10 |
| 專利代理機構 | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 |
| 代理人 | 任宗華 |
| 國省代碼 | 日本;JP |
| 主權項 | 一種碘化合物的制備方法，其中碘與底物在孔徑為500nm或以下的多孔材料的存在下，或在上述多孔材料和氧化劑的存在下反應。 |
| 摘要 | 提供了一種碘化合物的制備方法，其中碘與底物在孔徑為500nm或以下的多孔材料的存在下，或在上述多孔材料和氧化劑的存在下反應，以及高純度5-碘-2-甲基苯甲酸的制備工藝，其包括通過上述方法進行的碘化反應步驟，其中通過加入水或進行冷卻和接著分離使產物沉淀出來的晶體沉淀和分離步驟，和其中用有機溶劑對分離出的晶體進行重結晶的純化步驟。根據上述碘化合物的制備方法，碘可以高選擇性地引入到各種底物中。因為不必使用貴金屬和特殊的試劑，因此，可以很容易地在工業(yè)規(guī)模上進行該反應，并且可以得到高純產物。此外，本發(fā)明包括碘化反應、分離和純化步驟的工藝使得可以很容易地以高產率獲得高純度的5-碘-2-甲基苯甲酸，其可用于功能化學產品如藥物。包括碘化反應、分離和純化的步驟的特征在于，它們過程簡單，純化負載較小，并且非常有利于在工業(yè)上實施。 |
| 國際公布 | 2004-08-19 WO2004/069772 日 |
