| 公開(公告)號 | CN1273464C |
| 公開(公告)日 | 2006.09.06 |
| 申請(專利)號 | CN02151291.4 |
| 申請日期 | 2002.12.12 |
| 專利名稱 | 光學(xué)純R－（＋)－奧美拉唑制劑的制備方法 |
| 主分類號 | C07D401/06(2006.01)I |
| 分類號 | C07D401/06(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61P1/04(2006.01)I;C07D211/94(2006.01)N;C07D233/64(2006.01)N |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | |
| 申請(專利權(quán))人 | 常州市第四制藥廠有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | 嚴益民;屠永銳;李曉強 |
| 地址 | 213004江蘇省常州市南郊梅龍壩 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | |
| 進入國家日期 | |
| 專利代理機構(gòu) | 上海新天專利代理有限公司 |
| 代理人 | 王 巍 |
| 國省代碼 | 江蘇;32 |
| 主權(quán)項 | 一種含光學(xué)純R-(+)-奧美拉唑制劑的制備方法，其特征在于在制備中加入堿性物質(zhì)、0.1-1％的抗氧化劑；在≤30℃條件下制粒、包衣，采用真空氮氣流或惰性氣流及干燥劑的方法進行干燥；在制備過程中控制水分＜0.5％。 |
| 摘要 | 本發(fā)明屬藥物制劑技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供了含高度光學(xué)純S-(-)-和R-(+)-奧美拉唑制劑及制備方法。本發(fā)明在處方中加入合適的堿性物質(zhì)，如氫氧化鈉、氫氧化鎂、磷酸鈉、碳酸鈉等以保持pH≥9條件；加入一定量的穩(wěn)定劑，如亞硫酸鈉、硫代硫酸鈉等；通過特有的制備方法如采用惰性氣體造粒、包衣、干燥等；使得制劑在加工和儲運過程中保持外觀性狀和光學(xué)純度相對穩(wěn)定。本發(fā)明制備的各種制劑如片劑、膠囊、注射劑等更適合通過口服和非腸道給藥而達到采用本活性成分治療的目的。本發(fā)明工藝簡單，產(chǎn)品穩(wěn)定性好，成品率高；方法中使用的溶劑無毒性，適合工業(yè)化生產(chǎn)。 |
| 國際公布 |
