| 公開(公告)號 | CN101107227A |
| 公開(公告)日 | 2008.01.16 |
| 申請(專利)號 | CN200680002519.7 |
| 申請日期 | 2006.01.10 |
| 專利名稱 | 5-氨基吲哚衍生物 |
| 主分類號 | C07D209/40(2006.01)I |
| 分類號 | C07D209/40(2006.01)I;A61P3/04(2006.01)I;A61K31/404(2006.01)I |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2005.1.19 EP 05100312.7 |
| 申請(專利權(quán))人 | 霍夫曼-拉羅奇有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | 馬蒂亞斯·海因里�！�(nèi)特科文;讓-馬克·普朗謝;奧利維耶·羅什;羅莎·瑪麗亞·羅德里格斯-薩爾米恩托 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2006-01-10 PCT/EP2006/000125 |
| 進(jìn)入國家日期 | 2007.07.17 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人 | 柳春琦 |
| 國省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項(xiàng) | 通式I的化合物： 其中 R1和R2彼此獨(dú)立地選自： 氫， 低級烷基，低級鏈烯基，低級炔基， 環(huán)烷基，低級環(huán)烷基烷基， 低級羥烷基，低級烷氧基烷基， 低級烷硫基烷基， 低級二烷基氨基烷基，低級二烷基氨基甲�；榛� 未取代的或被1或2個基團(tuán)取代的苯基，所述的基團(tuán)獨(dú)立地選自低級烷基、低級鹵代烷氧基或低級羥烷基， 低級苯基烷基，其中苯環(huán)可以是未取代的或被1或2個基團(tuán)取代的，所述的基團(tuán)獨(dú)立地選自低級烷基、鹵素、低級烷氧基或低級羥烷基， 低級雜芳基烷基，其中雜芳基環(huán)可以是未取代的或被1或2個基團(tuán)取代的，所述的基團(tuán)獨(dú)立地選自低級烷基、鹵素、低級烷氧基或低級羥烷基，以及 低級雜環(huán)基烷基，其中雜環(huán)基環(huán)可以是未取代的或被1或2個低級烷基取代的；或 R1和R2與它們連接的氮原子一起形成任選含有另外的選自氧或硫的雜原子的4-、5-、6-或7-元飽和或部分不飽和的雜環(huán)， 所述的飽和雜環(huán)是未取代的或被1、2或3個基團(tuán)取代的，所述的基團(tuán)獨(dú)立地選自：低級烷基，鹵素，低級鹵代烷基，羥基，低級烷氧基，氧代，苯基，芐基，吡啶基和氨基甲�；� 或者與苯環(huán)稠合，所述的苯環(huán)是未取代的或被1、2或3個基團(tuán) 取代的，所述的基團(tuán)獨(dú)立地選自：低級烷基，低級烷氧基，鹵素 和低級鹵代烷基； R3為氫或低級烷基； R4選自：低級烷基，環(huán)烷基和低級環(huán)烷基烷基； m為0，1或2； 及其藥用鹽。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及式(I)化合物及其藥用鹽，其中R1、R2、R3、R4和m如說明書和權(quán)利要求書中定義，還涉及包含這些化合物的藥物組合物和它們的制備方法。所述化合物可用于治療和/或預(yù)防與H3受體的調(diào)節(jié)有關(guān)的疾病。 |
| 國際公布 | 2006-07-27 WO2006/077024 英 |
