公開(公告)號
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CN1938315A
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公開(公告)日
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2007.03.28
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申請(專利)號
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CN200480041948.6
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申請日期
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2004.12.30
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專利名稱
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新穎的吡啶衍生物、它們的制備方法以及包含它們的藥物組合物
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主分類號
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C07D491/052(2006.01)I
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分類號
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C07D491/052(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2003.12.30 KR 10-2003-0100132
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申請(專利權(quán))人
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SK化學(xué)株式會社
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發(fā)明(設(shè)計)人
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金亨昱;李男奎;金周玄;李海仁;趙龍白;柳濟(jì)虎;金南鎬;柳根鎬;李政范;鄭載潤
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地址
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韓國京畿道
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頒證日
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國際申請
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2004-12-30 PCT/KR2004/003545
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進(jìn)入國家日期
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2006.08.21
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專利代理機(jī)構(gòu)
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中國專利代理(香港)有限公司
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代理人
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張軼東;李連濤
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國省代碼
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韓國;KR
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主權(quán)項
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下式1的化合物或者其藥學(xué)上可接受的鹽, 其中R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7獨立地選自氫原子、鹵素、氰基、硝基、酰基、羥基、氨基、C1-C6低級烷基、C2-C6低級烯基、C1-C6低級烷氧基、C1-C6烷硫基、C1-C10烷基氨基、C4-C9環(huán)烷基氨基、C4-C9雜環(huán)烷基氨基、C1-C10芳烷基氨基、芳基氨基、酰胺基、飽和雜環(huán)基、酰氧基、C1-C6烷基亞磺;、C1-C6烷基磺酰基、C1-C6烷基磺;被、芳基亞磺;⒎蓟酋;、芳基磺酰基氨基、芳基、雜芳基、C1-C10芳烷基、C1-C10雜芳烷基、芳氧基和雜芳氧基;或者R1、R2、R3、R4、R5、R6和R7通過與相鄰的取代基連接而獨立地形成環(huán); X為氧或者硫原子; Y為氧原子或者N-R8,其中R8選自氫原子、C1-C6低級烷基、酰基、芳基、雜芳基、C1-C10芳烷基和C1-C10雜芳烷基;或者與相鄰的R6或者R7的取代基連接形成環(huán); 所述芳基選自苯基、萘基和稠合的苯基; 所述雜芳基和飽和雜環(huán)基為具有1~3個選自氧、氮和硫原子的五邊形或者六邊形雜環(huán);或者為稠合的雜環(huán);和 所述芳基和雜芳基是被1~4個選自鹵素、羥基、C1-C6低級烷基、C1-C6低級烷氧基、氨基、氰基、硝基、羰基和羧基的基團(tuán)取代的芳基或者雜芳基。
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摘要
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本發(fā)明涉及對細(xì)胞因子的生產(chǎn)具有抑制作用的新穎吡啶衍生物,所述細(xì)胞因子的生產(chǎn)與炎性反應(yīng)相關(guān),因此認(rèn)為所述化合物可以用作治療與炎癥、免疫、慢性炎癥相關(guān)的疾病的治療劑以及具有抗炎和止痛作用的治療劑。此外,本發(fā)明涉及制備上述化合物的方法以及含有上述化合物的藥物組合物。
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國際公布
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2005-07-14 WO2005/063768 英
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