| 公開(公告)號 | CN1688310A |
| 公開(公告)日 | 2005.10.26 |
| 申請(專利)號 | CN03823620.6 |
| 申請日期 | 2003.08.06 |
| 專利名稱 | 加替沙星的新晶型 |
| 主分類號 | A61K31/496 |
| 分類號 | A61K31/496;C07D401/04;A61P31/00 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.8.6 US 60/401,672;2002.8.12 US 60/402,749 |
| 申請(專利權(quán))人 | 特瓦制藥工業(yè)有限公司 |
| 發(fā)明(設計)人 | V·尼達姆-希爾德謝姆;S·維澤爾;G·斯特林鮑姆 |
| 地址 | 以色列佩塔提克瓦 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | 2003-08-06 PCT/US2003/024615 |
| 進入國家日期 | 2005.04.01 |
| 專利代理機構(gòu) | 中國專利代理(香港)有限公司 |
| 代理人 | 劉維升;李連濤 |
| 國省代碼 | 以色列;IL |
| 主權(quán)項 | 一種加替沙星的晶型，其特征在于其X射線反射在2θ角大約為17.2±0.2度處。 |
| 摘要 | 提供了加替沙星的新晶型，命名為晶型L，M，P，Q，S，和T1，以及其制備方法。還提供了將本發(fā)明的加替沙星的新晶型轉(zhuǎn)化為加替沙星的其它晶型的方法。 |
| 國際公布 | 2004-02-12 WO2004/012739 英 |
