| 公開(公告)號 | CN1678613A |
| 公開(公告)日 | 2005.10.05 |
| 申請(專利)號 | CN03820604.8 |
| 申請日期 | 2003.08.29 |
| 專利名稱 | 雜芳基腈衍生物 |
| 主分類號 | C07D473/00 |
| 分類號 | C07D473/00;C07D239/94;C07D239/42 |
| 分案原申請?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2002.8.30 GB 0220187.9 |
| 申請(專利權(quán))人 | 諾瓦提斯公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人 | E·阿爾特曼;C·貝特斯查爾特;早川謙二;入江統(tǒng);榊潤一;巖崎源司;R·拉特曼;M·米斯巴赫;手納直規(guī) |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國際申請 | PCT/EP2003/009621 2003.8.29 |
| 進入國家日期 | 2005.02.28 |
| 專利代理機構(gòu) | 北京市中咨律師事務(wù)所 |
| 代理人 | 黃革生;隗永良 |
| 國省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項 | 式I化合物或其可藥用鹽或酯，其中：R是H、-R2、-OR2或NR1R2，其中R1是H、低級烷基或C3至C10環(huán)烷基，且R2是低級烷基或C3至C10環(huán)烷基，且其中R1和R2獨立地任選被鹵代、羥基、低級烷氧基、CN、NO2或任選單-或二-低級烷基取代的氨基取代；X是＝N-或＝C(Z)-，其中Z是H、-R4、-C≡C-CH2-R5、C(P)＝C(Q)-R3，其中P和Q獨立地為H、低級烷基或芳基，R3是芳基、芳基-低級烷基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基-低級烷基、雜環(huán)基或雜環(huán)基-低級烷基，其中R3獨立地任選被一個或多個、例如1-3個選自以下的基團取代：鹵代、羥基、氧代、低級烷氧基、CN或NO2，或任選取代的以下基團：任選單-或二-低級烷基取代的氨基、芳基、芳基-低級烷基、N-雜環(huán)基或N-雜環(huán)基-低級烷基，其中任選取代包括1至3個選自鹵代、羥基、低級烷氧基、CN、NO2或任選單-或二-低級烷基取代的氨基的取代基，R4是H、芳基、芳基-低級烷基、芳基-低級鏈烯基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基-低級烷基、雜環(huán)基或雜環(huán)基-低級烷基，且其中R5是芳基、芳基-低級烷基、芳氧基、芳�；蛉缟纤x的N-雜環(huán)基，且其中R5任選被R7取代，其代表1至5個選自如下的取代基：鹵代、羥基、CN、NO2或氧代，或任選取代的以下基團：低級烷氧基、低級烷基、芳基、芳氧基、芳酰基、低級烷基磺�；�、芳基磺酰基、任選單-或二-低級烷基取代的氨基，或N-雜環(huán)基，或N-雜環(huán)基-低級烷基，其中N-雜環(huán)基表示飽和、部分不飽和或芳族含氮雜環(huán)部分，該雜環(huán)部分通過其氮原子連接，具有3至8個環(huán)原子，任選含有另外1、2或3個選自N、NR6、O、S、S(O)或S(O)2的雜原子，其中R6是H或任選取代的以下基團：低級烷基、羧基、�；�(包括低級烷基�；�、例如甲酰基、乙�；虮；蚍蓟；�、例如苯甲酰基)、酰氨基、芳基、S(O)或S(O)2，且其中N-雜環(huán)基任選例如與苯或吡啶環(huán)稠合為雙環(huán)結(jié)構(gòu)，且其中N-雜環(huán)基任選與3至8元環(huán)烷基或雜環(huán)連接形成螺結(jié)構(gòu)，其中所述雜環(huán)具有3至10個環(huán)成員且含有1至3個選自N、NR6、O、S、S(O)或S(O)2的雜原子，其中R6如上所定義，且其中雜環(huán)基表示具有3至10個環(huán)成員且含有1至3個選自N、NR6、O、S、S(O)或S(O)2的雜原子的環(huán)，其中R6如上所定義，且其中R7任選被1至3個選自如下的取代基取代：鹵代、羥基、任選單-或二-低級烷基取代的氨基、低級烷基羰基、低級烷氧基或低級-烷基酰氨基；Y是-NR8R9，其中：R8是H，或任選取代的以下基團：低級烷基、芳基、芳基-低級烷基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基-低級烷基、雜環(huán)基或雜環(huán)基-低級烷基，其中R8任選被R10取代，其代表1至4個選自以下的取代基：鹵代、羥基、CN、NO2、-O-C(O)-、任選取代的以下基團：低級烷基、C3-C10環(huán)烷基、低級烷氧基、低級鏈烯基、低級炔基、任選單-或二-低級烷基取代的氨基或N-雜環(huán)基(如上所定義)，其中R10任選被R11取代，其代表1至4個選自以下的取代基：鹵代、羥基、CN、NO2、氧代、任選取代的以下基團：任選單-或二-低級烷基取代的氨基、低級烷基、任選-低級烷基取代的COOH、亞磺酰基、磺�；�，或N-雜環(huán)基(如上所定義)，其中R11任選被R12取代，其代表1至4個選自以下的取代基：鹵代、羥基、CN、NO2、氧代、羥基低級烷基、C3-C10環(huán)烷基、任選低級烷基-取代的羧基、羥亞胺或如上所定義的N-雜環(huán)基，且其中R9獨立地為H，或任選取代的以下基團：低級烷基、芳基、芳基-低級烷基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基-低級烷基、雜環(huán)基或雜環(huán)基-低級烷基，且其中R9任選被鹵代、羥基、氧代、低級烷氧基、CN、NO2或任選單-或二-低級烷基取代的氨基取代；或Z和Y與它們所連接的碳原子連接在一起形成選自以下的式I化合物，或其中：R如上所定義；R15是低級烷基、C3-C10環(huán)烷基、C3-C10環(huán)烷基-低級烷基、NR20R21-低級烷基-，其中T是-O-或直接連接的鍵；R16是NR20R21-低級烷基-或R4，均如上所定義，R20是H、任選取代的以下基團：低級烷基、芳基、C3-C10環(huán)烷基、低級烷氧基低級烷基C3-C10環(huán)烷基-低級烷基或芳基低級烷基，R21是任選取代的以下基團：低級烷基、芳基、C3-C10環(huán)烷基、低級烷氧基低級烷基、C3-C10環(huán)烷基-低級烷基或芳基-低級烷基，或R20和R21形成如前所定義的N-雜環(huán)基環(huán)，且其中R20或R21獨立地任選被R23取代，其代表1至3個選自以下的取代基：鹵代、羥基、CN、NO2、氧代、任選單-或二-低級烷基取代的氨基，或任選取代的以下基團：低級烷氧基、低級烷基、低級烷氧基羰基、芳基、芳基-低級烷基、芳基-低級鏈烯基、芳氧基、芳�；�、烷基磺�；�、芳基磺�；騈-雜環(huán)基或N-雜環(huán)基-低級烷基，其中N-雜環(huán)基如上所定義；A是-CH＝或-C(O)-，B是-C＝或-N-，D是-CH＝或-C(O)-且E是-CH＝或-N(R1)，其中R1如上所定義。 |
| 摘要 | 本發(fā)明提供了式I化合物或其可藥用鹽或酯，其中的標(biāo)記具有所定義的含義，其為組織蛋白酶K抑制劑并且在藥學(xué)上可用于治療其中牽涉組織蛋白酶K的疾病或醫(yī)學(xué)狀況，例如各種病癥，包括炎癥、類風(fēng)濕性關(guān)節(jié)炎、骨關(guān)節(jié)炎、骨質(zhì)疏松癥或腫瘤。 |
| 國際公布 | WO2004/020441 英 2004.3.11 |
