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新型雜芳基衍生物

醫(yī)藥數(shù)據(jù)庫中心 藥學(xué)論壇 大日本住友制藥株式會社/渡邊健一;丸田克紀(jì);后田貫太郎;永田龍
公開(公告)號 CN1849303A  
公開(公告)日 2006.10.18  
申請(專利)號 CN200480026235.2  
申請日期 2004.07.13  
專利名稱 新型雜芳基衍生物  
主分類號 C07D207/333(2006.01)I  
分類號 C07D207/333(2006.01)I;A61K31/40(2006.01)I;A61K31/4164(2006.01)I;A61K31/4184(2006.01)I;A61P3/10(2006.01)I;A61P43/00(2006.01)I;C07D233/64(2006.01)I;C07D235/12(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 2003.7.15 JP 274684/2003  
申請(專利權(quán))人 大日本住友制藥株式會社  
發(fā)明(設(shè)計)人 渡邊健一;丸田克紀(jì);后田貫太郎;永田龍  
地址 日本大阪府大阪市  
頒證日  
國際申請 2004-07-13 PCT/JP2004/010282  
進(jìn)入國家日期 2006.03.13  
專利代理機(jī)構(gòu) 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 鄒雪梅  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項 式(1)所示的雜芳基衍生物、其前藥或其藥學(xué)上可接受的鹽: 式中,環(huán)Z表示可被取代的雜芳基, R1表示羧基、烷氧基羰基、可被取代的氨基甲酰基、可被取代的環(huán)狀氨基羰基、可被取代的烷基磺;被柞;、可被取代的芳基磺;被柞;蛘咚倪蚧, W1和W2表示可被取代的低級亞烷基, Ar1表示可被取代的亞芳基或可被取代的亞雜芳基, W3表示單鍵、低級亞烷基、低級亞烯基或者-Y1-W5,式中,Y1表示氧原子、硫原子、-S(O)-或-S(O)2-,W5表示低級亞烷基或低級亞烯基,W4表示單鍵、-NR10-、-NR10-W6(式中,R10表示氫原子或可被取代的低級烷基,W6表示低級亞烷基)、低級亞烷基或低級亞烯基,Ar2表示可被取代的芳基或可被取代的雜芳基。  
摘要 式(1)所示的雜芳基衍生物、其前藥或其藥學(xué)上可接受的鹽:式中,環(huán)Z表示可被取代的雜芳基,R1表示羧基或烷氧基羰基等,W1和W2表示可被取代的低級亞烷基,Ar1表示可被取代的亞芳基或可被取代的亞雜芳基,W3表示單鍵、低級亞烷基或低級亞烯基等,W4表示單鍵或-NR10-等,Ar2表示可被取代的芳基或可被取代的雜芳基。  
國際公布 2005-02-10 WO2005/012245 日  
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